第71章 科技創新，永無止境[第8頁/共8頁]

光刻技術，作為當代晶片製造不成或缺的一部分，其核心在於操縱光束將電路圖案投射到塗覆有光阻劑的矽片大要，通過暴光反應構成纖粗佈局，進而完成晶片的圖形轉移過程。TMG公司的數控機床所搭載的光刻模塊，采取了最早進的極紫外（EUV）光源，能夠實現奈米級彆的邃密加工，大大超出了傳統光刻技術的極限，為海佳電器的MZ晶片研發供應了前所未有的能夠性。